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行业应用
凸点封装工艺 晶圆级扇出封装 2.5D及3D封装技术 IGBT功率模块封装
晶圆级扇出封装
扇出型晶圆级封装技术无需使用中介层或硅通孔(TSV),即可实现外形尺寸更小芯片的封装异构集成。在嵌入每个裸片时,裸片间的空隙会有一个额外的I/O连接点,在提高I/O数量的同时,也会使得硅的利用率有所提升。在扇出型晶圆级封装技术的加持下,具有成千上万I/O点的半导体器件可通过两到五微米间隔线实现无缝连接,从而使互连密度最大化
工艺流程
切割: 从晶圆代工厂(Foundry)生产完成的晶圆(Wafer)经过测试后进入生产线类似传统封装,扇出型封装第一步也需要将来料晶圆切割成为裸晶。扇出型封装的主要特点是将切割后的裸晶组合成为重构晶圆,与来料晶圆相比,重构晶圆上裸晶之间的距离相对更大,因此方便构造单位面积更大,输入输出(I/O)更多的芯片成品。 塑封、去除载片: 完成重构晶圆的贴片后,对重构晶圆进行塑封以固定和保护裸晶。然后将重构晶圆载片移除,从而将裸晶对外的输入输出接口(I/O)露出。 制作再布线层: 为了将裸晶上的接口(I/O)引出至方便焊接的位置,在晶圆上通过金属布线工艺制作再布线层(RDL)。 晶圆减薄: 为使芯片成品更轻薄,对晶圆进行减薄加工。 植球: 在再布线层(RDL)所连接的金属焊盘上进行植球,方便后续芯片在印刷电路板(PCB)上的焊接。 晶圆切割、芯片成品: 最后将重构晶圆进行切割,以得到独立的芯片。
特点
封装尺寸小由于没有引线、键合和塑胶工艺,封装无需向芯片外扩展,使得WLP的封装尺寸几乎等于芯片尺寸。 高传输速度与传统金属引线产品相比,WLP一般有较短的连接线路,在高效能要求如高频下,会有较好的表现。 高密度连接WLP可运用数组式连接,芯片和电路板之间连接不限制于芯片四周,提高单位面积的连接密度。 生产周期短WLP从芯片制造到、封装到成品的整个过程中,中间环节大大减少,生产效率高,周期缩短很多。 工艺成本低WLP是在硅片层面上完成封装测试的,以批量化的生产方式达到成本最小化的目标。
应用领域
扇出型封装“核心”市场,包括基带、电源管理及射频收发器等单芯片应用。 智能手机/人工智能/机器学习/云/5G/自动驾驶等领域的芯片应用。
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