公司技术团队有超高真空MBE设备、高真空磁控溅射设备及ALD设备的经验，对于真空的获得及真空度测量的技术具有不同的解决方案。
加热器、pedestal或者susceptor表面温度的控制及调整技术，可以在高温下（850C）将susceptor温度控制到+/-1℃。团队对于温控器的选择、温控算法的深度开发具有多年经验。
技术团队从事多年PVD， PECVD，MOCVD及ALD设备的设计及研发，对于气体的流畅、热场，薄膜沉积厚度、材料电阻、介电常数或者应力的控制，具有丰富的经验
真空高压脱泡是根据Henry定律，结合材料的黏度与温度的关系，通过高压和真空结合的方法，将材料中的大小气泡消除，从而保证了芯片的寿命及可靠性
top
